歡迎(ying)來到杭(hang)州安研(yan)儀(yi)器制(zhi)造(zao)股份有(you)限(xian)公(gong)司網站!
當前位置:首頁(ye) > 技(ji)術(shu)文章(zhang) > 了解(jie)壹下(xia)氫氣(qi)發生器的(de)電解(jie)液(ye)及(ji)點(dian)解技(ji)術(shu)把(ba)
氫(qing)氣(qi)發生器是(shi)采(cai)用零(ling)極距(ju)純(chun)水(shui)電解(jie)池(chi),以(yi)SPE固(gu)態(tai)電解(jie)質(zhi)薄膜(mo)作(zuo)為(wei)導電介(jie)質(zhi),貴(gui)金(jin)屬導流板作(zuo)為(wei)導電部(bu)件(jian),使(shi)用(yong)時(shi)只(zhi)需(xu)加(jia)入去離(li)子純水(shui),通(tong)電後(hou),電解(jie)池(chi)陰(yin)極(ji)產(chan)氫(qing)氣(qi),陽(yang)極產氧氣(qi),氫(qing)氣(qi)進(jin)入氫/水(shui)分離(li)器,即可(ke)產(chan)氫氣(qi),無(wu)高濃度堿液(ye)的(de)潛在(zai)風險(xian),安(an)全(quan)可(ke)靠(kao)。
氫(qing)氣(qi)發生器所(suo)用電解(jie)液(ye)主(zhu)要(yao)有(you)兩(liang)種(zhong):
1.堿液(ye)
氫(qing)氧化(hua)鉀溶劑:300g氫氧化(hua)鉀配1000ml水(shui)(去(qu)離(li)子水(shui)或二次(ci)蒸(zheng)餾水(shui)),倒(dao)入水(shui)箱(xiang)後(hou)看水(shui)箱(xiang)液(ye)位,不夠再直接加水(shui)(去(qu)離(li)子水(shui)或二次(ci)蒸(zheng)餾水(shui))。
2.普(pu)通(tong)電解(jie)液(ye)
直接使(shi)用(yong)二(er)次(ci)蒸(zheng)餾水(shui)或去離(li)子水(shui)。
氫(qing)氣(qi)發生器的(de)電解(jie)技(ji)術(shu)解(jie)析:
1.電解(jie)技(ji)術(shu)比(bi)其(qi)他產(chan)氫(qing)技(ji)術(shu)更好(hao),是(shi)因(yin)為(wei)所(suo)產氫(qing)氣(qi)更幹凈,維(wei)護(hu)少,氫氣(qi)發生器且無須(xu)儲備化(hua)學(xue)試劑來維(wei)護(hu)操(cao)作(zuo)。只(zhi)須純(chun)水(shui)(條(tiao)件(jian)不(bu)夠(gou)時,考(kao)慮蒸(zheng)餾水(shui)或去離(li)子水(shui)),就可*運行(xing)非常(chang)長時間(jian);
2.發生器與(yu)其(qi)他須(xu)用(yong)腐蝕(shi)性溶液(ye)來產生(sheng)氫(qing)氣(qi)的(de)發生器相比(bi),會發現所(suo)采用(yong)的(de)電解(jie)技(ji)術(shu)的(de)優勢(shi)。腐蝕(shi)性溶液(ye)中(zhong)的(de)汙(wu)染(ran)物能影(ying)響(xiang)所(suo)產出氫氣(qi)的(de)純(chun)度,也(ye)會使(shi)儀(yi)器過(guo)早(zao)的(de)退(tui)化(hua)變質(zhi)。電解(jie)技(ji)術(shu)也(ye)不(bu)浪(lang)費時間(jian),因(yin)為(wei)日常(chang)維(wei)護(hu)只(zhi)是(shi)“加(jia)水(shui)"即可(ke)。根(gen)本就不須(xu)儲存腐蝕(shi)性溶液(ye)來花(hua)時間(jian)清洗電解(jie)池(chi);
3.氫(qing)氣(qi)發生器電解(jie)過(guo)程(cheng):該儀(yi)器通(tong)過(guo)電解(jie)水(shui),產(chan)生(sheng)純(chun)凈的(de)氫(qing)氣(qi)(副(fu)產物為(wei)氧氣(qi))。氫(qing)氣(qi)發生器的(de)關(guan)鍵部件(jian)為(wei)內(nei)部(bu)放(fang)有(you)固(gu)態(tai)膠(jiao)體電解(jie)質(zhi)的(de)電化(hua)學(xue)池(chi)。不(bu)須(xu)任(ren)何酸和(he)堿。與該電化(hua)學(xue)池(chi)接(jie)觸的(de)只(zhi)有(you)純(chun)水(shui)(條(tiao)件(jian)不(bu)夠(gou)時,考(kao)慮蒸(zheng)餾水(shui)或去離(li)子水(shui))。因(yin)水(shui)會被消(xiao)耗掉(diao),因(yin)此(ci)須定(ding)期加(jia)水(shui);
4.發生器所(suo)產生(sheng)的(de)氫(qing)氣(qi)在(zai)氫氣(qi)/水(shui)池(chi)中(zhong)和(he)幹燥腔(qiang)中(zhong)聚集(ji)。壓(ya)力變(bian)送器控(kong)制(zhi)氣(qi)體(ti)壓力,並(bing)由(you)鍵盤進行(xing)調節。輸出壓力可(ke)被LCD顯(xian)示(shi)。氫氣(qi)通(tong)過幹燥管(guan)和(he)裝(zhuang)滿(man)幹燥(zao)劑的(de)幹(gan)燥柱(zhu)中(zhong)被gan燥。然(ran)後(hou)氫氣(qi)通(tong)過限(xian)流閥和(he)輸出管道(dao),從儀(yi)器的(de)後(hou)面輸出。
微(wei)信(xin)掃(sao)壹(yi)掃(sao)